• Belichtung von Standardglassubstraten:
  4"x4" - 9"x9", Dicke: 1-3mm
• Belichtung kundenspezifischer Substratgrößen und -materialien
• Belichtung von Keramiksubstraten
• Abbildungsmaßstab: 1:5 und 1:1
• Auflösungsvermögen / Bildfeldgröße:
  

  Auflösungsvermögen (µm)	1,4	1,2	1,0	3,0
  Bildfeldgröße (mm2)	20x20	16x16	12x12	ø 80

  
  
• Herstellung von Strichplatten entsprechend o.g. Abmessungen im Lift-Off-Verfahren bzw. als geätzte Teilungen
• Schichten:
  Chrom (Chromschichten analog Diadur 1/2/3/4, Schwarzchrom, Weißchrom), Silber, Aluminium
• Geräte:
  GCA 8000 Wafer Stepper Exposure System,
  AÜR 2 Automatischer Überdeckungsrepeater (modifiziert - Jenoptik GmbH)

Kontaktkopie

• Belichtung kundenspezifischer Substratgrößen und -materialien
• Strukturabmessungen - je nach Genauigkeit - bis ca. 200 x 200 mm
• Auflösung: ca. 3µm
• Geräte:
  Suess Maskaligner