POG Präzisionsoptik Gera GmbH

Kundenspezifische Mikrostrukturen

Lithografie

Der bei POG etablierte lithografische Prozess zur Herstellung von Mikrostrukturen umfasst die Designentwicklung, Resistprozessierung, Belichtung und die Strukturübertragung mittels Lift Off oder Ätzprozess. Die Belichtung ist auf unterschiedlichen Substratvarianten möglich, wobei eine Überdeckung mehrerer Belichtungsebenen realisiert werden kann.

Verschiedene Belichtungstechnologien stehen zur Verfügung:

Projektionskopie
Auflösungsvermögen (µm) 1,0 1,2 1,4 3,0
Bildfeldgröße (mm2) 12x12 16x16 20x20 ø 80

Kontaktkopie


Lift Off Prozess

Substrat

Substrats mit Photoresist

Belichtung mit Maske und UV-Strahlung (Kontaktkopie)

Substrat mit entwickelter Resistmaske

Aufdampfen oder Sputtern von Chrom

Substrat mit gelifteter Metallstruktur


Ätzprozess

Substrat

Metallisiertes Substrat (Chrombeschichtung)

Metallisiertes Substrat mit Photoresist

Belichtung mit Maske und UV-Strahlung (Kontaktkopie)

Metallisiertes Substrat mit entwickelter Resistmaske

Substrat mit geätzter Metallstruktur

Informationen & Anfragen

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Telefon: +49 365 77393-00
Email: info@pog.eu

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