Definiert und strukturiert

Wir sind einer der führenden Anbieter für anspruchsvolle, kundenspezifische optische Mikrostrukturen. Darunter verstehen wir bei POG nahezu zwei dimensionale Strukturen mit Strukturgrößen >1µm, die auf planen Substraten mit Technologien der Mikrolithografie hergestellt werden. Mit flexiblen Fertigungsansätzen bedienen wir Kundenwünsche für Life Science, Sportoptik, Messtechnik, Machine Vision und Photonik und sind von der Entwicklung über die Einzelteilfertigung bis zur teilautomatisierten Serienfertigung an Ihrer Seite.

Kundenspezifische Lösungen für

Life Science

  • Okularstrichplatten, Objektmikrometer und andere Mikrostrukturen für die Mikroskopie
  • Lochblenden, Mikroblenden, Aperturblenden für die Endoskopie
  • Kalibrierstrukturen für die Pharmaindustrie
  • Fluoreszenzkalibriertargets für die Mikroskopie

Machine Vision

  • Kalibrierstrukturen für Anwendungen im Auflicht und Durchlicht
  • Auflösungstests für Anwendungen im Auflicht und Durchlicht (z.B. USAF Auflösungstest oder Siemensstern)

Sportoptik

  • Absehen für Zielfernrohre, Spektive und Laserentfernungsmesser als beleuchtete Ausführung und als Normalabsehen
  • Absehen mit Chromabdeckung der Leuchtstrukturen zur Objektivseite
  • Ausführung als Einzelteil, Kittgruppe oder als komplette Unterbaugruppe

Photonik

  • Mikroblenden und abbildende Mikroblenden (Dias)
  • Mikrolinsenarrays
  • variable Verlaufsfilter, Graufilter und geometrische Strahlteiler Details
  • Strukturierung breitbandig reflexionsgeminderter Schichten
  • Strukturierung leitfähiger Schichten, z.B. ITO und Gold

Standardmikrostrukturen

Alle Standardmikrostrukturen

Unsere Expertise

Maßgeschneiderte Lösungen für Ihre speziellen Anforderungen

Wir möchten Ihre Anwendung verstehen, um Ihnen die beste Lösung für genau Ihre Anforderung zu liefern.

Unser technischer Vertrieb und unsere Prozessingenieure helfen Ihnen, die richtigen Spezifikationen zu definieren und wählen die optimale Fertigungstechnologie, um Ihr Produkt kosteneffizient und optimiert für Ihre Ansprüche zu produzieren.

Fertigung komplett im Haus

Mit einem umfangreichen Portfolio an Fertigungstechnologien stellen wir die Produktion optischer Mikrostrukturen vollständig hausintern sicher. Unsere hochqualifizierten und erfahrenen Mitarbeiter meistern anspruchsvolle Herstellungsprozesse für Muster und Serienstückzahlen.

Deshalb wissen wir genau, was wir Ihnen versprechen können – und Sie können sich darauf verlassen.

Höchste Produktqualität

Definierte Prozesse in jedem Schritt garantieren höchste Qualität – im Angebot und beim Produktdesign, bei der Fertigung von Mustern und Serienstückzahlen bis hin zu Endprüfung und Versand.

Prozesse und Technologien

Von Design bis Serienproduktion

Wir verfügen über die Kompetenzen und technischen Möglichkeiten, den gesamten Entwicklungs- und Fertigungsprozess im Haus durchführen zu können.

Products_Microstructures_Collection

Erstellung des Layouts

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Vollständige Erstellung der Layoutdaten zur Maskenerstellung nach Zeichnung oder auf Basis Ihrer CAD-Daten. mehr

Fertigung der Masken

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Vollständige Maskenfertigung mit Elektronenstrahllithografie. mehr

Fertigung auf Waferlevel

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Ausführen aller lithografischen Prozesse, wie Belichten, Entwickeln, Chromätzen, Plasmaätzen, HF-Ätzen, Lift-Off sowie das Aufbringen von metallischen Schichten und Antireflexionsbeschichtungen.

Vereinzelung & Konturbearbeitung

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Vereinzeln und Konturbearbeitung durch Laserschneiden, Wafersägen und Präzisionsschleifen.

Montage & Prüfung

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Integration der mikrostrukturierten Komponenten zu opto-mechanischen Unterbaugruppen und Komplettierung mit Beleuchtung und Elektronik. Prüfung, Vermessung und Protokollierung relevanter Spezifikationen. Lieferung mit DAkkS-Kalibrierung bei Bedarf.

Ihre Optionen für den Projekterfolg

Um die Anforderungen für Ihre konkrete Anwendung zu erfüllen, kann aus einer Vielzahl von Optionen für Substratmaterialien und Oberflächenausführungen gewählt werden.

Zur Kostenoptimierung empfehlen wir folgende Standardsubstratvarianten:

Substratmaterial Materialklasse Substratdicken [mm] Dickentoleranzen [mm] Substratgröße [mm x mm]
D263 Dünnglas
technisches Floatglas
0,145
0,17
0,21; 0,3; 0,4
0,55; 0,7
±0,02
±0,005
±0,02
±0,05
100×100
B270 technisches Glas 1,0; 1,5; 2,0; 3,0 ±0,1 101,6 x 101,6
127 x 127
SK-1300 synthetisches Quarzglas 1,0; 1,5 ±0,1 127 x 127
Nextrema 724-8 technische Glaskeramik
weiß opak
0,63; 1,0; 1,5; 2,0; 3,0  ±0,1 101,6 x 101,6
127 x 127

 

Hiervon abweichende Substratanforderungen können kundenspezifisch gefertigt und für lithographische Prozesse weiterverarbeitet werden.
Im Vergleich zu Standardsubstraten ergeben sich daraus höhere Fertigungskosten, längere Lieferzeiten und ggf. Entwicklungsaufwand für technologischen Anpassungsbedarf der Lithographieprozesse.

Bei Fragen bitten wir Sie, uns in einer frühen Projektphase zu kontaktieren.

Wir bieten eine Vielzahl strukturierbarer Schichten zur Realisierung Ihres Produkts.

Ein Großteil der Anforderungen für die Strukturierung kann dabei mit einer der zwei folgenden Standardschichten umgesetzt werden:

Schichtname Schichtmaterial Optische Dichte Reflexion Bemerkungen Datenblatt
POG-HRC-OD3 Chrom HRC OD>3@550nm R>45%@550nm High Reflective Chrome, Glanzchrom, metallisch glänzend POG-HRC-OD3
POG-LRC-550-OD3 Chrom LRC OD>3@550nm R<15%@550nm Low Reflective Chrome, Schwarzchrom – mit reflexionsmindernder Wirkung im VIS-Bereich POG-LRC-550-OD3

 

Für abweichende Anforderungen bezüglich optischer Dichte, Reflexion oder spektraler Lage stehen weitere erprobte Varianten zur Verfügung:

Schichtname Schichtmaterial Optische Dichte Reflexion Bemerkungen Datenblatt
POG-HR-Al-PL Al + SiO2 R(abs) spec. wavelength > 90%
R(avg) 400-700nm > 85%
VIS-Spiegel POG-HR-Al-PL
POG-HR-Au-PL Au + Y2O3

 

Für neue Schichtsysteme für Ihre speziellen Anforderungen oder in Kombination mit speziellen Substratmaterialien unterbreiten wir Ihnen gern Lösungsvorschläge mit einer individuellen Schichtentwicklung.

Wir verfügen über verschiedene Technologien zur Realisierung unterschiedlichster Kundenanforderungen. Bei der Prüfung Ihrer konkreten Spezifikationen erfolgt die Auswahl der optimalen Fertigungstechnologie.

Belichtungsprozess Bildfeld [mm] Minimal mögliche Auflösung [µm] Bemerkungen
Maskaligner max. 200×200 1,5
  • für Standardsubstrate
  • geeignet für große Layouts mit engen Toleranzforderungen
  • Rückseitenausrichtung möglich
Projektionskopie mit 1:1Abbildung max. ø 80 5
  • für Standardsubstrate
  • gut geeignet für Serienfertigung
  • größeres Bildfeld
Projektionskopie mit 5:1Abbildung max. ø 20 1,0
  • für Standardsubstrate
  • gut geeignet für Serienfertigung
  • eingeschränktes Bildfeld
  • sehr hohe Strukturtreue
Elektronenstrahlbelichtung max. 150×150 1
  • für Standardsubstrate
  • flexible Musterfertigung
Kontaktkopie  ca. 200×200 3 bis 5
  • geeignet für spezielle Substrate, Einzelteile, Planflächen von Linsen
  • weniger geeignet für Serienfertigung als Projektionskopie

Wir realisieren ins Material geätzte Strukturen mit verschiedenen Technologien. Hauptanwendung sind geätzte und gefüllte Strukturen für Leuchtabsehen in Zielfernrohren.

Prozess Strukturgrößen Material Bemerkungen
HF-Ätzen > 6µm B270
  • Verwendung B270 als kostenoptimiertes Substratmaterial möglich
Plasmaätzen > 2µm Quarzglas
  • kleinere Strukturen für Anwendungen bei hoher Vergrößerung möglich
  • Beschränkung auf Quarz als Substratmaterial
  • etwas höhere Kosten

Weitere Details finden Sie hier.

Für die meisten Anwendungen im VIS-Bereich empfehlen wir die Standard-Breitband-Antireflex-Beschichtung:

Schichtname Reflexion AoI Bemerkungen Datenblatt
POG-AR-420-650 Rabs < 0,5% @ 420-650nm 0° bis 15° POG-AR-420-650

Für neue Schichtsysteme für Ihre speziellen Anforderungen oder in Kombination mit speziellen Substratmaterialien unterbreiten wir Ihnen gerne Lösungsvorschläge mit einer individuellen Schichtentwicklung.

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Vertrieb Deutschland

André Mießler


Vertrieb International

USA & Canada

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